1         前言
本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員氣體分會歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：上海華愛色譜分析技術(shù)有限公司、西南化工研究設(shè)計院、大連光明化工研究院。
隨著微電子工業(yè)的迅速發(fā)展，廣大用戶對電子工業(yè)用三氯化硼的質(zhì)量提出了更高更苛刻的要求。因此，重新修訂電子工業(yè)用三氯化硼的國家標(biāo)準(zhǔn)是我們必須要進行的一項具有深遠意義的重要工作。
2  標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)內(nèi)容
99年版標(biāo)準(zhǔn)未采用SEMI標(biāo)準(zhǔn)，2005年版的SEMI標(biāo)準(zhǔn)三氯化硼純度為99.9995%，規(guī)定得雜質(zhì)含量是氯和金屬離子，不適宜采用。本次修訂根據(jù)三氯化硼的發(fā)展情況，參照了國外氣體公司的企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)?，F(xiàn)就有關(guān)采用情況說明如下：
2.1 分子量
    93版標(biāo)準(zhǔn)采用的是1989年國際相對原子質(zhì)量，現(xiàn)行的是2005年年國際相對原子質(zhì)量，本次修訂采用2005年原子量，根據(jù)GB8170-1987《數(shù)值修約規(guī)則》計算所得。
2.2  技術(shù)指標(biāo)的依據(jù)
國際半導(dǎo)體設(shè)備與材料組織（SEMI）制定的國際工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)中，2005年版三氯化硼標(biāo)準(zhǔn)是：SEMI C3.33—92，三氯化硼99.9995%，雜質(zhì)含量規(guī)定的是Cl2、COCl2、Al、Ca、Cu、Fe、Mg、Ni、K、Si、Na。此標(biāo)準(zhǔn)不適合我國目前的國情，因此本次修訂沒有采用。
此次修訂參照了國外企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)5N級產(chǎn)品技術(shù)指標(biāo)，氧含量為1×10-6（V/V），其余雜質(zhì)含量和99版相同。
2.3  關(guān)于抽樣、判定和復(fù)驗
99版標(biāo)準(zhǔn)采用的逐一檢驗，此次修訂沒有變化。
99版標(biāo)準(zhǔn)未對采樣的具體要求和安全作規(guī)定，此次修訂增加了采樣具體要求和安全的規(guī)定，
2.4至少應(yīng)達到的保存期限的規(guī)定
由于電子氣體的特殊性，此次修訂增加了對保存期限的規(guī)定，具體的指標(biāo)參照SEMI C52-0301《特種氣體儲存期限》中的相關(guān)規(guī)定。三氯化硼至少應(yīng)達到的保存期限：18個月。
2.5  關(guān)于檢驗方法
2.5.1  氮、氧含量測定：99版采用的是熱導(dǎo)和HID法，本次修定采用的是HID檢驗法，
（1）氦離子化檢測器是通用型的檢測器，該檢測器對除氦以外的所有組分均有響應(yīng)。因此氦離子化氣相色譜儀的應(yīng)用范圍十分廣泛，根據(jù)不同的應(yīng)用范圍可以設(shè)計出不同的氣路流程。氦離子化包括放射源離子化、放電離子化和光離子化三種方式，三種電離方式不一樣，但結(jié)果都是使氦原子離子化，然后利用氦離子較高的電子電勢去電離目標(biāo)組分。本標(biāo)準(zhǔn)采用的是放電離子化的方式。
（2）由于三氯化硼對分析的干擾性，本標(biāo)準(zhǔn)采用了帶切割的氣路流程。
1——高純氦載氣鋼瓶；  2——鋼瓶減壓器； 3——穩(wěn)壓閥；4——壓力表；5——凈化管；6——穩(wěn)流閥；7——流量調(diào)節(jié)閥；8——流量計；9——檢測器；10——分析柱；11——切割閥；12——預(yù)分離柱； 13——六通閥； 14——過濾器；     15——定體積量管。